Ізраїльська компанія Tower Semiconductor оголосила про плани інвестувати $3 млрд у розширення виробництва кремнієвої фотоніки в Японії. Цей проєкт, підтриманий японським урядом грантами на $1 млрд, має на меті розвиток технологій для штучного інтелекту та дата-центрів. Інвестиційна програма реалізовуватиметься у два етапи. На першому етапі компанія переобладнає підприємство Arai для виробництва 300-мм кремнієвої фотоніки, що дозволить швидше передавати дані між ШІ-чипами. Запуск виробництва заплановано на IV квартал 2027 року.
Паралельно Tower розвиватиме виробництво чипів на базі кремній-германієвої технології, що забезпечує вищу швидкодію. Генеральний директор компанії Рассел Еллвангер зазначив: «Ми очікуємо, що другий етап забезпечить основу для подальшого зростання далеко за межами 2028 року». Інвестиції Tower є частиною глобальної гонки за розвитком інфраструктури штучного інтелекту, де технологічні гіганти вже інвестували близько $700 млрд.