Китайська державна компанія зі Шанхаю розпочала масове виробництво установок для DUV-літографії з імерсійним випромінюванням. Перші такі системи отримають у 2024 році компанії SMIC, Hua Hong Semiconductor та виробник DRAM ChangXin Memory Technologies.
У 2024 році планується випустити 5 установок, а наступного року — близько 20. Всі три компанії входять до списку китайських виробників, яким у разі ухвалення законопроекту в Конгресі США буде заборонено співпрацювати з нідерландською компанією ASML. За даними The Information, у розробці брали участь команди DUV-розробників із кількох китайських компаній, серед яких є державний стартап Shanghai Yuliangsheng Technology.
SMIC тестує імерсійний інструмент від Shanghai Yuliangsheng Technology з вересня 2023 року. Хоча більшість компонентів у нових системах китайського виробництва, деякі критично важливі деталі досі постачаються з Японії. Затримки з боку місцевих постачальників стримують виробництво у 2024 році.
Законопроект Палати представників США № 8170 вводить заборону на співпрацю компаній SMIC, Hua Hong, CXMT, Huawei та YMTC з ASML. Документ, внесений у квітні, був схвалений Комітетом із закордонних справ Палати представників 22 квітня. Аналогічний законопроект зареєстрований у Сенаті під номером S. 4281. Обмеження стосуються не лише експорту, а й обслуговування та технічної підтримки імерсійних DUV-сканерів, що вже використовуються на китайських підприємствах.
У 2024 році ASML планує поставити близько 130 імерсійних систем, що відповідає показникам 2023 року. Фінансовий директор компанії Роджер Дассен повідомив, що виробничі потужності для імерсійних систем мають зрости на 30% у 2027 році, а також розглядається можливість подальшого збільшення на 30% у 2028 році.
При цьому Китай забезпечує близько 20% чистого прибутку ASML у 2024 році, що на 13% менше, ніж торік. Технологія імерсійної DUV-літографії дозволяє друкувати елементи класу 28 нм за одну експозицію та досягати 7 нм завдяки багатошаровому нанесенню малюнка, проте це збільшує кількість помилок сумісності та зменшує вихід придатних зразків.
Генеральний директор ASML Крістоф Фуке зазначив, що зростання інтенсивності виробництва DRAM частково відображається у переході клієнтів від багатошарового нанесення до більш дешевої технології EUV з одноразовою експозицією. Незалежний аналіз AI Futures Project у червні показав, що комерційне впровадження імерсійної ультрафіолетової літографії в Китаї очікується в середині 2030-х років. Водночас ASML продовжить утримувати 98,7% ринку імерсійної літографії.
Кваліфікація нових китайських машин для серійного виробництва може зайняти багато місяців. За продуктивністю та якістю збірки вони поступаються ASML. Розробка Китаєм технології EUV-літографії поки що далека від повноцінної реалізації.